10月8日消息，臺灣地區半導體制造商臺積電日前透露，該公司6納米制程技術明年第一季度進入試產，明年年底前量產。

臺積電稱，其極紫外光(EUV)微影技術之7納米強效版(N7+)制程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的N7+奠基于該公司成功的7納米制程之上，為6納米和更先進制程奠定良好基礎。

N7 +的量產速度為史上量產速度最快的制程之一，于2019年第二季開始量產，在7納米制程技術(N7)量產超過一年時間的情況下，N7+良率與N7已相當接近。

N7 +同時提供了整體效能的提升，N7 +的邏輯密度比N7提高了15%至20%，并同時降低了功耗。臺積電快速布建產能以滿足多個客戶對于N7 +的需求。

臺積電表示，EUV微影技術使公司能夠持續推動晶片微縮，因EUV的較短波長能夠更完美地解析先進制程的設計。臺積電的EUV設備已達成熟生產的實力，EUV設備機臺也達到大量生產的目標，在日常運作的輸出功率都大于250瓦。

臺積電稱，N7+的成功經驗是未來先進制程技術的基石。臺積電6納米制程技術(N6)將于2020年第一季進入試產，并于年底前進入量產。隨著EUV微影技術的進一步應用，N6的邏輯密度將比N7提高18%，而N6憑借與N7完全相容的設計法則，也可大幅縮短客戶產品上市的時間。

臺積電成立于1987年，是全球最大的晶圓代工半導體制造廠，客戶包括蘋果、高通等。其總部位于臺灣新竹的新竹科學工業園區。臺積電公司股票在臺灣證券交易所上市，股票代碼為2330，另有美國存托憑證在美國紐約證券交易所掛牌交易，股票代號為TSM。

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