7 月 16 日消息，據(jù)東方晶源發(fā)布，近日，東方晶源微電子科技(北京)有限公司(以下簡稱“東方晶源”)發(fā)布首款基于云端的 EDA 計(jì)算光刻平臺 ——AeroHPO 全流程協(xié)同優(yōu)化系統(tǒng)，成為國產(chǎn) EDA 和一體化良率解決方案“云”部署商。

該系統(tǒng)沿用東方晶源自主研發(fā)、全球率先工程應(yīng)用的“全芯片反向光刻掩模優(yōu)化(ILT)”技術(shù)，同時依托于公有云平臺，可為客戶提供 28nm 及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的制程建模、基于 ILT 的掩模優(yōu)化、設(shè)計(jì)規(guī)則與掩模規(guī)則檢查(DRC / MRC)、光源掩模聯(lián)合優(yōu)化(IRO)、嚴(yán)格物理光刻仿真、DPT 版圖拆分及光刻性能檢查(LRC)等全產(chǎn)品線功能與服務(wù)。

AeroHPO 是東方晶源現(xiàn)有基于私有計(jì)算集群的計(jì)算光刻解決方案的補(bǔ)充，該系統(tǒng)在易獲得性和靈活的收費(fèi)方式等方面具有顯著優(yōu)勢，可為高校和科研院所等提供便捷的 EDA 和計(jì)算光刻教學(xué)與科研平臺，同時也為中小型芯片設(shè)計(jì)與制造企業(yè)提供更為經(jīng)濟(jì)和靈活的解決方案。

東方晶源的 AeroHPO 全流程協(xié)同優(yōu)化系統(tǒng)，不僅解決了掩模優(yōu)化設(shè)計(jì)問題，而且具有上游 EDA 工具以及下游缺陷分析和良率控制系統(tǒng)的可擴(kuò)展性和兼容性，提供了從芯片設(shè)計(jì)到制造一體化的 DTCO 綜合平臺。

截至目前，該系統(tǒng)已經(jīng)在合作伙伴北京超級云、華為云和騰訊云等公有云上完成測試。

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